人物简介

卓以和(AlfredY.Cho),美国电机工程学家。1960年毕业于美国伊利诺斯大学,1961年、1968年先后获该校硕士、博士学位。美国科学院院士(1985)、美国工程院院士(1985)、美国科学与艺术院院士(1989)。现任美国AT&T公司贝尔实验室半导体研究所所长、教授。卓以和教授是国际公认的分子束外延、人工微结构材料生长和在新型器件研究领域的奠基人与开拓者。对Ⅲ-V族化合物半导体、金属和绝缘体的异质外延和人工结构的量子阱、超晶格及调制掺杂微结构材料系统地开展了大量先驱性的研究工作。用研制的新材料,最先研究成功10多种极为重要的、性能优异的新型微波高速电子器件和光电子器件。现在又领导AT&TBell实验室半导体研究所的合作者,开创性地研制成功量子阱级联式新型激光器,被认为是半导体激光器发展中的又一个里程碑。卓以和教授对我国发展分子束外延技术极为关切,给予了关键性指导与我国同行建立了深厚友谊,对促进中美两国学术交流,提高我国在国际学术界的地位和影响作出了重要贡献。

1996年6月7日当选为中国科学院外籍院士。美国更多人物

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